發布日期: Nov 23,2023

新應材公司再創佳績!榮獲智慧財產局產業專利競賽第二名

深耕台灣、專注自主研發及半導體與顯示器電子化學領域享譽業界的特用化學材料設計及製造商,新應材公司再度在業界競賽中傲視群雄。繼今年5月獲頒經濟部「國家產業創新獎—績優創新企業」的殊榮後,再度於今年1114日舉辦的「2023年經濟部智慧財產局產業專利分析與布局競賽」榮獲第二名佳績。這項競賽由經濟部智慧財產局主辦,以推動產業創新發展為目標,並以全球專利檢索系統(GPSS)為指定工具,新應材公司在專利分析與布局領域表現卓越。

專利競賽1

新應材公司於「2023年經濟部智慧財產局產業專利分析與布局競賽」榮獲第二名佳績

這場激烈的競賽中,新應材公司的「PHOTO-AEMC」團隊以「先進半導體光阻」的產業及專利分析脫穎而出,在60支參賽團隊中奪得第二名的佳績。這次獲獎印證了新應材公司在半導體材料領域的研發實力,以及對先進製程的卓越貢獻。

競賽結果顯示,「PHOTO-AEMC」團隊在專利檢索知識與分析技能方面表現卓越,能夠依據產業特性進行精準專利檢索,提出當前產業專利趨勢及概況,並深入分析產業內競爭對手的布局狀況。「PHOTO-AEMC」對我國企業目前處境及可發揮的優勢的深入剖析,評審團對此感到驚艷,認為這將對台灣半導體化學產業及新應材公司未來的發展起到關鍵重要的指導作用。

PHOTO-AEMC」團隊的優異表現也凸顯了新應材公司對專利布局及產業分析的高度重視,把握這次與產學研界深入交流的寶貴機會,新應材公司和學界及企業分享其卓越的技術與研發成果,不斷提升企業專利分析技術實力,同時深耕產業分析與專利布局,為公司未來的發展奠定穩固基礎。

本次競賽除了頒發獎金鼓勵,智慧財產局也希望透過舉辦競賽,促進產學研合作,培育更多優秀的專利分析人才,提供了9小時的教育訓練課程,從專利檢索入門一直深入至專利布局,為參賽團隊提供全方位的支持,推動台灣產業邁向更具競爭力的未來。感謝智慧財產局及評審對新應材公司的肯定,也感謝「PHOTO-AEMC」團隊的付出與努力,替新應材公司再次拿下佳績,未來團隊將繼續展現卓越的技術實力,幫助新應材公司為台灣產業發展做出更大的貢獻。

專利競賽2

PHOTO-AEMC」團隊與競賽獲獎夥伴合影

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